13 सितंबर, दोष लकड़ी चिप सुखाने की मशीन के जंगल लकड़ी के अवशेषों के कारण [सोखना]
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इस समय के बारे में अंतिम समय है, लेकिन सोखना intermolecular बलों बारे में था.
स्पष्ट करने के लिए और पानी नरक क्या में भीगना बहुत तेजी से लगता है.
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तीन. सोखना
सोखना में क्या है और.
"सोखना और (सोखना) वस्तु के इंटरफेस में है, एकाग्रता परिवेश से ऊपर बढ़ जाती है
वह घटना. चरण चरण गैस / तरल, तरल चरण / तरल चरण, चरण, प्रत्येक चरण ठोस / तरल चरण ठोस / गैस चरण के इंटरफेस में हो सकता है.
इसके विपरीत, कि पदार्थ के रूप में संदर्भित desorption के interfacial सोखना से दूर किया गया था.
अंतरफलक के परमाणुओं, क्योंकि यह सामग्री के रूप में आसपास के अंदर परमाणुओं, मुक्त ऊर्जा के साथ गठबंधन नहीं करता है
(Interfacial मुक्त ऊर्जा) बढ़ जाती है. इस कारण, interfacial परमाणुओं और अणुओं के आसपास के क्षेत्र में आयनों के लिए
मुक्त ऊर्जा को कम करने के प्रयास के रूप में रासायनिक प्रजातियों, जोड़ती है. इस घटना बुलाया सोखना. "
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गैसों और तरल पदार्थ के आणविक सोखना घटना बुलाया सक्रिय कार्बन के रूप में एक ठोस सतह पर फंस रहे हैं, उदाहरण के लिए,.
सोखना घटना की बाध्यकारी और सोखना की शक्ति द्वारा निम्नलिखित चीजों की दो प्रकार adsorbed के है
काफी प्रतिष्ठित किया जा.
एक शारीरिक सोखना)
शारीरिक सोखना (शारीरिक सोखना, physisorption) के "और अणुओं, (adsorbate तरल पदार्थ)
वान डर वाल्स (पी लेनेवाला पदार्थ) एक ठोस सतह के बीच अभिनय बलों द्वारा एक ठोस सतह पर केंद्रित
सोखना के एक क्षेत्र को इसी घटना को संदर्भित करता है. सामान्य में, वैन der वाल्स बल, ईओण बांड
क्योंकि यह एक बहुत कमजोर बातचीत बातचीत और सहसंयोजक संबंध की तुलना में इस तरह के रूप में, शारीरिक रूप से adsorbed के
अणुओं को आसानी से इस तरह के रूप में हीटिंग और decompression आपरेशन द्वारा desorbed कर रहे हैं. "
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इंजीनियरिंग प्रयोगशाला, विज्ञान और प्रौद्योगिकी थर्मल ऊर्जा Kokushikan के संकाय
पृष्ठ से "चयन विधि स्थिति और उत्सर्जन नियंत्रण प्रौद्योगिकी और कार्बनिक सॉल्वैंट्स के प्रसंस्करण के तुलनात्मक मूल्यांकन, आदि"
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"एक झरझरा ठोस के सोखना pores दो राज्यों के रूप में अच्छी तरह के रूप में इसकी सतह के आकार से ठीक पाउडर
अक्सर सक्रिय हो जाते हैं लगता है. नमी और polarity के साथ यह करने के लिए हाइड्रोकार्बन ताकना दीवार के रूप में
कि शारीरिक सोखना कि आप वान डेर वाल्स बल, बड़े अणुओं में रखना. Pores के
यह एक बड़ी शक्ति को आकर्षित नैनो आकार का स्तर सामान्य में, हो जाता है, और आयन बाध्यकारी
सहभागिता सहसंयोजक बंधन की तुलना में कमजोर है. ऐसा करने के लिए, या तापमान वृद्धि, या जब दबाव कम हो गया था
एक समय में adsorbed के पदार्थ desorb. कुछ सक्रिय कार्बन, जिओलाइट, सिलिका जेल, और diatomaceous पृथ्वी. "
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इस फैलाव 3 intermolecular बलों के बल) के साथ पर्याय बन गया है का कहना है कि अंतिम शब्द एक Dell प्रशंसक और शक्ति के अक्सर मूल्य मिल जाएगा
यह भी सत्ता के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है.
इस शब्द में है
पावर "वान डर वाल्स (वान डेर वाल्स बल), परमाणु एक तटस्थ शुल्क नहीं है,
जैसे अणुओं के बीच जोड़नेवाला बल में मुख्य रूप से एक काम के लिए एक सामान्य शब्द बन जाते हैं. इसकी दूरी की ऊर्जा क्षमता
Inversely आनुपातिक वर्ग 6. बिजली की पहुँच बहुत कमजोर और कम है, यानी है.
वान डर वाल्स बाध्यकारी (वान डर वाल्स, इस एकजुट बल द्वारा अणुओं के बीच का गठन बंधन
) का कहना है बाध्यकारी. "
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मैं यह आसान इस पृष्ठ पर काबू करने के लिए लगता है. कृपया निम्न पृष्ठ देखें.
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सोखना करने के लिए वापस बात
2 chemisorption)
इंजीनियरिंग प्रयोगशाला, विज्ञान और प्रौद्योगिकी थर्मल ऊर्जा Kokushikan के संकाय
पृष्ठ से "चयन विधि स्थिति और उत्सर्जन नियंत्रण प्रौद्योगिकी और कार्बनिक सॉल्वैंट्स के प्रसंस्करण के तुलनात्मक मूल्यांकन, आदि"
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"दूसरी ओर, एक मजबूत बांड ईओण बांड या परमाणुओं की तरह सहसंयोजक बंधन और सतह बनाने के लिए
रासायनिक सोखना कि. दूसरे शब्दों में, ठोस सतह, desorption के बीच एक रासायनिक प्रतिक्रिया के रूप में माना जा सकता है
बात कर सकते हैं और अलग - अलग प्रतिक्रिया है. इसके अलावा, आदेश में adsorbed के सामग्री को सीधे सतह प्रतिक्रिया से संबंधित है
प्रदर्शन में गिरावट हो सकती है. desorption की प्रतिक्रिया अक्सर एक बड़ी गर्मी की आवश्यकता है,
Desorption मुश्किल है. आम तौर पर शारीरिक सोखना, रासायनिक सोखना और सोखना की तुलना में अधिक स्थिर है,
फिल्म adsorbed के अणु अणु के लिए एक परमाणु के रूप में होगा एक ठोस सतह से मेल खाती है
सोखना पूरा है. रासायनिक सोखना, formalin पर कब्जा है, और कुछ दुर्गन्ध है. "
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ने कहा कि शारीरिक सोखना और मजबूत कमजोर chemisorption बाध्यकारी बल के बंधन बल दो के सोखना की तुलना में.
कैसे इन पिछले गठबंधन के लिए उल्लेख किया है, intermolecular बलों से प्रभावित हैं.
इसके अलावा, अपनी शक्ति बढ़ जाती है के रूप में इंटरफ़ेस की सतह क्षेत्र पहले वर्णित है.
पदार्थ का उपयोग के particulates या झरझरा यह सामान्य लगता है सोखना के लिए फायदेमंद है.
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"पता लगाने के ठीक कणों के भौतिक गुणों सात बदलना Masahiro Maeno द्वारा संदर्भ
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तो भी Resona है.
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मैं दिन पर ब्लॉग चाहिए, लेकिन कल से व्यस्त हो जाएगा.
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